有不同的设备用于进行结晶过程，称为结晶器。这种设备可分为哪几类呢？下面，小编就为大家带来结晶器四大类型介绍，以供大家参考哦！
       1、整体溶液结晶器。晶体在溶液中悬浮长时间，同时发生成核和生长。
       2、沉淀容器。进入容器的进料流产生高过饱和度，快地形成大量小晶体。
       3、熔融结晶器形成多个晶体。溶液或熔体的体积在悬浮液中或在冷却表面上形成晶体。杂质残留在少量未结晶的母液中。
       4、熔融结晶器形成大的纯度高的单晶。晶体从熔体中慢慢形成，产生大而纯且无缺陷的晶体。这些通常用于半导体制造。
       这些类型的设备都有什么共同点？
       1、产生过饱和度以驱动结晶的区域。
       2、晶体与过饱和溶液接触的区域，用于晶体生长。在某些情况下，整个容器中都存在晶体，通过某种形式的搅拌悬浮;在其他情况下，晶体只占据容器的一部分，通常作为流化床。
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